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氮化硼制品的制造方法是,熱處理湍層的BN粉末以降低其氧含量至5—8%(介石墨的BN),洗滌經熱處理的粉末,將其與5—8%非晶形的硼混合,將此混合物成型,用流體動力方法壓實該成型體,以及反應燒結已壓實的成型體,以制出所述的制品。之后將此制品埋入BN與SiC的粉末混合物中和進行熱處理,以吸收殘余的B2O3。此后,將此制品浸漬低粘度的甲基硅烷類的低聚物(MW<1000),所選用的低聚物在熱解時可以產生高比例的SiC,并將該制品進行熱處理,以使其孔隙中通過整個厚度均勻地充滿SiC。
氮化硼(BN)薄膜的場發(fā)射特性與不同基底偏壓和不同膜厚的關系.在磁控濺射反應器中,使用高純六角氮化硼(h-BN)靶,通入Ar和N2的混合氣體,制備出了納米BN薄膜.濺射是在基底加熱470℃和總壓力為1.2Pa的條件下進行的.在超高真空系統(tǒng)中測量了不同膜厚和不同基底偏壓的BN薄膜的場發(fā)射特性,發(fā)現BN薄膜的場發(fā)射特性與基板偏壓和膜厚關系很大。
介石墨的氮化硼粉與除了單質硼粉以外的反應燒結劑的 混合物制造氮化硼陶瓷制品的方法,其中包括將該混合物成形 為制品的形狀,在壓力下將已成形的混合物壓實和將此已壓實 的混合物在真空或惰性或氮氣的氣氛下反應燒結,其特征在于 該介石墨的氮化硼含化學鍵合氧按質量從5%到10%,所述 的反應燒結劑按化學計量比至少相當于該化學鍵合氧,以及該 反應燒結劑能與現有的B、N和/或O在燒結條件下起化學反 應,以形成適當的難熔化合物加上容許的小部分揮發(fā)性產物。